键、最复杂和占用时间比最大的步骤，是ic生产中的最核心工艺，占晶圆制造耗时的5%左右。

    半导体工序流程与技术复杂，缩减ic尺寸需要行业整体投入。

    八五年，机电部第45所研制成功bg-11分步光刻机，主要性能指标接近或达到gca公司48ds系统的水平；中k院沪海光学精密机械研究所同年研制成功的“扫描式投影光刻机”通过鉴定，认为达到gca公司48ds的水平，为我国大规模集成电路专用设备填补了一项空白。

    八十年代中后期，国内企业开始大规模引进外资，成立半导体合资公司，有了“造不如买，买不如租”的思想，光刻技术和产业化，停滞不前。

    半导体产业链是一个庞大而复杂的系统化工程，需要综合国力和科技水平作为基础，还会经常遭到以美国为首的西方国家制裁，前世，举国之力都没有赶上美国和日本，还落在韩国的后面。

    重生者打算在通讯芯片方面有所作为，不会狂妄到凭一己之力生产euv光刻机。

    从李国良和刘宇宏的口里得知，如今能生产光刻机的企业，少说也有数十家，高端光刻机市场被尼康垄断，尼康一家就拿下四成光刻机市场份额，英特尔、ibm、amd和德州仪器都是尼康光刻机的大客户；gca、佳能、svg、ultratech排在第二梯队，p＆e、日立和asml属于第三梯队。

    孙健立马指示余建国，派人前往荷兰埃因霍温接洽asml，看是否有投资股权的机会？

    在开曼群岛注册的曙光投资公司（tic愿意投资asml的股权。

    余建国派正在开拓德国软件市场的向冬萍和郭雨辰，暂时放下手里的工作，前往荷兰埃因霍温接洽asml。

    向冬萍和郭雨辰开始学习光刻机和芯片生产的基础知识，搜集asml、尼康、gca、佳能和svg的资料。

    光刻机的原理就像幻灯机简单，把光通过带电路图的掩膜（mask，也叫光罩，投影到涂有光敏胶的晶圆上。

    六十年代的光刻，掩膜版是1：1尺寸紧贴在晶圆片上，而那时晶圆也只有一英寸大小，光刻机当时并不是高科技，半导体公司通常自己设计工装和工具，英特尔开始是买16mm摄像机镜>> --